References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 170 List of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 176 CHAPTER 4 a-Si:H TFT Structures . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183 YueKuo 1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183 2. Basic Structures . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 183 3. Simplified Structures and Processes . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 188 4. Unique Structures and Processes . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 192 5. Redundant Structures . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 195 6. Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 198 References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 200 List of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 202 CHAPTER 5 Deposition of Intrinsic and Doped Semiconductor Thin Films for a-Si:H TFT . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 203 YueKuo 1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 203 2. Semiconductor Layer Deposition . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 206 3. Doped Amorphous and Microcrystalline Silicon . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 223 4. Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 231 References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 233 List of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 239 CHAPTER 6 Deposition of Dielectric Thin Films for a-Si:H TFT . . . . . . . 241 YueKuo 1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 241 2. Selection of Dielectric Materials and Deposition Methods . . . . . . . 242 3. PECVD SiNx Dielectric Layer . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 244 4. Yield Issues Related to Dielectrics . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 263 5. Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 265 References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 267 List of Symbols . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 271 CHAPTER 7 Plasma Etching in a-Si:H TFT Array Fabrication . . . . . . . . 273 YueKuo 1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 273 2. Topics in Plama Etching of a-Si:H TFTs . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 278 Table of Contents Vll 3. Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 306 References . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 307 CHAPTER 8 Metallization in a-Si:H TFT Array Fabrication . . . . . . . . . . . . . 313 Ken-ichi Onisawa, Shinji Takayama, Yuzo Shigesato, Takuya Takahashi 1. Introduction . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .. . . . . . . . . . . . . . 313 2. Basic Understanding of Conductor Lines in TFT LCDs . . . . . . . . 314 3. Conductor Requirements for a-Si:H TFTs . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 318 4. Conducting Materials for TFT Array . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 321 5. Key Issues in Conducting Materials for Advanced TFT Array Fabrication . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 324 6. Conductor Deposition for TFT Arrays . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 337 7. Wet Etching of Conductors for a-Si:H TFT Arrays . . . . . . . . . . . . . . . . . 347 8. Summary . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . .
Muu info
Springer Book Archives
1 Introduction.-
1. Brief History of Thin Film Transistors.-
2. a-Si:H TFT LCDs.-
3. Unique a-Si:H TFT Issues.-
4.
Chapter Flow in the Book.- References.- 2 a-Si:H TFT Thin Film and Substrate Materials.-
1. Introduction.-
2. Semiconductors.-
3. Dielectrics.-
4. Substrates.-
5. Characterization Techniques.-
6. Summary.- References.- List of Symbols.- 3 Device Physics, Compact Modeling, and Circuit Applications of a-Si:H TFTs.-
1. Introduction.-
2. Density of States and Electronic Transport.-
3. Device Physics and Compact Modeling.-
4. Threshold Voltage Metastibility.-
5. Parameter Extraction.-
6. Circuit Applications.-
7. Summary.- References.- List of Symbols.- 4 a-Si:H TFT Structures.-
1. Introduction.-
2. Basic Structures.-
3. Simplified Structures and Processes.-
4. Unique Structures and Processes.-
5. Redundant Structures.-
6. Summary.- References.- List of Symbols.- 5 Deposition of Intrinsic and Doped Semiconductor Thin Films for a-Si:H TFT.-
1. Introduction.-
2. Semiconductor Layer Deposition.-
3. Doped Amorphous and Microcrystalline Silicon.-
4. Summary.- References.- List of Symbols.- 6 Deposition of Dielectric Thin Films for a-Si:H TFT.-
1. Introduction.-
2. Selection of Dielectric Materials and Deposition Methods.-
3. PECVD SiNx Dielectric Layer.-
4. Yield Issues Related to Dielectrics.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 7 Plasma Etching in a-Si:H TFT Array Fabrication.-
1. Introduction.-
2. Topics in Plama Etching of a-Si:H TFTs.-
3. Summary.- References.- 8 Metallization in a-Si:H TFT Array Fabrication.-
1. Introduction.-
2. Basic Understanding of Conductor Lines in TFT LCDs.-
3. Conductor Requirements for a-Si:H TFTs.-
4. Conducting Materials for TFT Array.-
5. Key Issues in Conducting Materials for Advanced TFT Array Fabrication.-
6. Conductor Deposition for TFT Arrays.-
7. Wet Etching of Conductors for a-Si:H TFT Arrays.-
8. Summary.- References.- List of Symbols.- 9 Catalytic Chemical Vapor Deposition of a-Si:H TFT.-
1. Introduction: Cat-CVD vs. PECVD.-
2. History of Cat-CVD.-
3. Fundamentals of Cat-CVD Technology.-
4. Performance of Cat-CVD a-Si:H TFT.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 10 a-Si:H TFT-Based Active Matrix Flat-Panel Imagers for Medical X-ray Applications.-
1. Introduction and Background.-
2. Basic Design and Operation of AMFPIs.-
3. Detailed Functioning and Properties of AMFPIs.-
4. Summary and Outlook.- References.- List of Symbols.- 11 Non-LCD Applications of a-Si:H TFTs.-
1. Introduction.-
2. Medical Imagers.-
3. Flat Panel Displays.-
4. Contact Imagers, Scanners, and Printers.-
5. Photo-Transistors.-
6. Chemical Sensors.-
7. Circuits on Various Substrates.-
8. Summary.- References.- 1 Introduction.-
1. The Increase in Poly-Si TFT Activities.-
2. Scientific and Technology Issues on Poly-Si TFTs.-
3.
Chapter Flow in the Book.- 2 Poly-Si Thin Film and Substrate Materials.-
1. Introduction.-
2. Poly-Si Basic Material Properties for TFT Applications.-
3. Dielectric Material Properties for Poly-Si TFT Applications.-
4. Substrates.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 3 Physics and Modeling of Poly-, Micro-, and Nano-Si TFTs.-
1. Introduction.-
2. Physics of Poly-Si TFTs.-
3. Poly-Si TFT Device Models.-
4. Micro- and Nano-Crystalline Silicon TFTs.-
5. Circuit Simulation Examples.-
6. Summary.- References.- List of Symbols.- 4 Poly-Si TFT Structures.-
1. Introduction.-
2. Basic TFT Structures.-
3. Drain Engineering.-
4. Novel TFT Structures.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 5 Poly-Si TFTs by Laser Crystallization Methods.-
1. Introduction.-
2. History.-
3. Pulsed Laser Heating and Rapid Crystallization.-
4. Structural and Electrical Properties.-
5. Poly-Si TFT Fabrication and its Characteristics.-
6. Large Crystalline Grain.-
7. CW Laser Crystallization.-
8. Summary.- References.- List of Symbols.- 6 Poly-Si TFTs by Non-Laser Crystallization Methods.-
1. Introduction.-
2. Solid Phase Crystallization (SPC) by Thermal Methods.-
3. Metal Induced Crystallization of a-Si.-
4. Non-Metal Induced Crystallization.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 7 Poly-Si TFTs by Direct Deposition Methods.-
1. Introduction.-
2. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of Poly-Si.-
3. Sputtering.-
4. Low Pressure Chemical Vapor Deposition.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 8 Doping Techniques for Poly-Si TFTs.-
1. Introduction.-
2. Impact of Doping Techniques.-
3. Doping Methods.-
4. Activation of Dopant Methods.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 9 Gate Insulators for Poly-Si TFTs.-
1. Introduction.-
2. Required Features for Low Temperature Gate Insulators.-
3. Oxide Formation.-
4. Electrical Properties.-
5. Summary.- References.- List of Symbols.- 10 Process Integration Issues for Poly-Si TFT Fabrication.-
1. Introduction.-
2. Key Process Integration Issues.-
3. Poly-Si TFT Performances.-
4. Summary.- References.- List of Symbols.- 11 Poly-Si TFT Drivers.-
1. Introduction.-
2. Poly-Si TFT Device Characteristics for High Performance Display Drivers.-
3. Poly-Si TFT LCD Data Drivers.-
4. Low Power Consumption Driving Techniques and Circuit Design Using Poly-Si TFT.-
5. Fault-tolerant Poly-Si TFT Circuits.-
6. Poly-Si TFT for Organic EL Display: Pixel Design.-
7. Comparison of Poly-Si TFT Driver Circuits and a-Si:H TFT Driver Circuits.-
8. Summary.- References.- List of Symbols.- 12 Approaches to Poly-Si TFTs on Flexible Substrates.-
1. Introduction.-
2. Substrate Materials.-
3. Direct Fabrication on Flexible Substrates.-
4. Separation and Transfer Approaches.-
5. Reliability of Poly-Si TFTs on Flexible Substrates.-
6. Summary.- References.- List of Symbols.- 13 Poly-Si TFTs for non-LCD Applications.-
1. Introduction.-
2. Applications in VLSIC.-
3. Non-VLSIC Applications.-
4. Summary.- References.- List of Symbols.
